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フォトマスク設計・検証ツール「dw-2000」のホームページへようこそ!dw-2000は1988年の販売開始以来、米国を初め世界中でカスタムIC、MEMS及び光デバイスなど最先端ナノデバイス設計・開発・検証に幅広く使用されているフォトマスクレイアウトCADです。極めて自由度の高いマクロ機能、インターフェースカスタマイズ性など、いかに設計作業を容易かつ合理化・自動化するか、そして費用対効果の最大化を開発理念として熟成されてきたdw-2000の世界を是非ご体験下さい。 |
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